2014年05月21日

光学薄膜微复制技术打破国外垄断

  近日,湖北航天化学技术研究所承担的“光学薄膜精密微复制工艺制备关键技术开发及应用”项目,通过了湖北省科技厅组织的验收。验收结果显示,该技术打破国外垄断。据介绍,光学薄膜精密微复制技术是在光学薄膜基材表面精密涂布特定配方树脂,然后在拥有特定设计纳微尺度几何结构的雕刻辊上成型的技术,广泛应用于液晶平板显示器背光模组增亮膜和扩散膜、道交通标识微棱镜反光膜以及家电用仿金属拉丝高光膜等。这些高附加值产品,市场需求大,关键技术一直掌握在国外公司手中。据湖北航天化学技术研究所相关负责人介绍,经过3年攻关,他们先后开展了结构设计、刻印树脂配方研究和涂布工艺研究,设计出特殊表面涂层微结构,开发出特殊刻印涂层树脂配方;在光学薄膜刻印涂层背面采用防眩、防划伤或防静电处理,提高产品收益率20%以上,极大地提高了我国新材料产业科技水平。(谭元斌)